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Lista de Productos
Modelo: TF-2006
Marca: Tianfu
Paquete: Como petición del comprador
productividad: 100Ton
transporte: Ocean,Land,Air,DHL,TNT
Lugar de origen: China
Apoyo sobre: 50Ton
Certificados : ISO
Hafen: Shanghai port,Qingdao port
Tipo de Pago: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
El P-acetoxiestireno se puede usar para sintetizar poliparahidroxiestireno como componente principal de una fotoprotección (fotoprotectora). Las series de fotoprotectores químicamente amplificados de poli-p-hidroxiestireno son actualmente los productos fotorresistentes más importantes del mundo y son una de las tecnologías clave para el procesamiento de circuitos integrados de foto-grabado y chips de fabricación. La tecnología de fotograbado se desarrolla desde la producción de un ancho de línea de 0.3-0.28 μm hasta la luz ultravioleta profunda (longitud de onda 248nm) para producir un ancho de línea de 0.18μm, y la luz ultravioleta ultra profunda (longitud de onda 193nm) se puede usar para trazar el ancho de línea a 0. 11 μm microcircuito. La fotoprotección de 248 nm generalmente utiliza un derivado de poli-p-hidroxiestireno como resina formadora de película, sal de aril-yodonio o sal de sulfonio como generador de fotoácidos, utilizando tecnología de amplificación química para liberar el generador de fotoácidos bajo la luz. El ácido, luego ácido, cataliza la reticulación del polímero ( gelificación negativa) o la reacción de desprotección (gelatinización positiva), lo que aumenta considerablemente la fotosensibilidad.
Metal Contents
|
AI | <10ppb | <1 |
Ca | <10ppb | 4.5 | |
Mg | <10ppb | <1 | |
Cu | <10ppb | <1 | |
Fe | <10ppb | <1 | |
Na | <10ppb | 9.2 | |
Ni | <10ppb | <1 | |
Zn | <10ppb | <1 | |
K | <10ppb | <1 | |
Mn | <10ppb | <1 | |
Cr | <10ppb | <1 | |
SN | <10ppb | 0.2 | |
AS | <01ppb | 0.3 |
Test Items | Specification | Results |
Appearance | Colorless Liquid | Colorless Liquid |
Purity (GC) | ≥99.0% (area) | 99.22% (area) |
(w/w%) Water content by KF |
≤0.10% | 0.02% |
Clarity (10%(w/w)Methanol Soivent) | Clear | Clear |
Total Acid Number | ≤100(mgKOH/L) | 13.8(mgKOH/L) |
Polymerization inhibitor |
200ppm-300ppm | 256 |
PRODUCTOS POR GRUPO : Químico fino
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